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中芯國際的破局

2020/5/23 20:24:00 點擊:
振奮人心,中芯國際獲國家 200 億注資,擬取代臺積電曲線救華為。




近幾年來,中國的半導體行業蓬勃發展,市場需求保持快速增長。 據中投產業研究院數據,2017 年中國大陸地區半導體設備銷售額達 82.3 億美元,2018 年為 131.1 億美元,同比增長達 59%,銷售額度較去年增長了近 48.4 億美元,可見中國市場對半導體產品的迫切需求。同時,中國以 131.1 億美元的銷售額超越臺灣,成為世界第二大半導體制造設備銷售市場。 


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得益于國內市場的良好態勢,中芯國際的營收表現亮眼。與此同時,中芯國際的技術工藝也迎來振奮人心的突破,但同時也面臨一些外部的挑戰。 通訊、消費品,仍是營收主力 在國內半導體需求迅猛增長的情況下,中芯國際也交出了一份不錯的成績單。 


 


5 月 13 日,中芯國際發布了 2020 年 Q1 財務報表。第一季度銷售額為 9.059 億美元,相較 2019 年第四季度增長 7.8%;毛利為 2.3 億美元,較 2019 年第四季度增長 17.1%;毛利率為 25.8%,較 2019 年第四季度增長 23.8%,凈利潤達到了 6416.4 萬美元,同比增長更是達到了 422.8%。 總體來看,中芯國際在 2020 年開局取得了不錯的成績。


 


尤其是凈利潤表現亮眼,在其凈利潤迅猛增長的背后,通訊消費品依舊是營收貢獻的主力。據中芯國際產品分類數據,通訊和消費類產品總占據業務總量的 80%。 


 








通訊產品一直是中芯國際營收的核心。2019 年通訊產品占到了中芯國際總營收的 46%,而中芯國際通訊業務營收的迅速增長,與國內電子產品廠商將訂單轉給中芯國際有關。 從 2019 年底開始,華為就陸續將設計芯片的訂單從臺積電轉到中芯國際。近日,華為又宣布將旗下的海思半導體 14 納米 FinFET 工藝部分芯片代工訂單交由中芯國際完成。


 


華為訂單的轉移,一方面幫助了中芯國際提升其在 14nm 量產水平;另一方面,也助力了中芯國際的營收增長。 此外,消費類芯片也是中芯國際另一大營收來源。國內消費電子市場不斷快速增長,智能手機、液晶電視、DVD 播放機、數碼相機和攝像機等產品需求不斷增長,帶動了中芯國際等半導體企業在該類業務領域的發展。 


 


中芯國際在 2020 年第一季度表現亮眼,但其面臨的技術問題仍然不可忽視。為了在技術上尋求突破,中芯國際開展 N+1、N+2 工藝戰略,直追臺積電 7nm 制程工藝。 N+1 工藝,力求破局 最新消息,中芯國際 CEO 梁孟松宣布中芯國際目前正在全力研發 N+1 工藝,已進入客戶導入產品認證階段,并且提到 N+1 工藝的芯片相較 14nm 性能提升 20%、功耗降低 57%、邏輯面積縮小 63%,SoC 面積縮小 55%。 從中芯國際 N+1 工藝芯片性能來看,幾乎相當于臺積電第一代 7nm 工藝,預計年底即可量產。 


 


值得注意的是,中芯國際的 N+1 工藝并不等于 7nm 工藝。市場上 7nm 工藝相較 14nm,基準提升幅度是 35%,而中芯國際的 N+1 工藝提升幅度為 20%,相較略為遜色。但其成本較低,且 N+1 工藝制程并不需要 EUV。在這一點上,中芯國際無疑是取得了技術性的突破。 N+1 取得的喜人成就,不禁讓業界對中芯國際的 N+2 工藝充滿期待,N+2 工藝在性能上比 N+1 進一步提升,更逼近市場 7nm 工藝。 相對于半導體市場的 7nm,N+1 工藝上雖然比 7nm 稍顯遜色,但其成本比市場上的 7nm 低大約 10%。對于半導體產品需求大的廠商,無疑這個突如其來的喜訊定會引起他們極大的興趣。此外,相較美國控股的臺積電,中芯國際顯然更值得他們信賴。 中芯國際在制程工藝上的進步,對國內半導體企業有著很大的激勵作用。然而,中芯國際的技術發展之路上,并不是一帆風順的。 




不容忽視的技術代差 早在 2017 年,中芯國際的集成電路制造工藝還停留在 28nm 階段,而此時的臺積電已經開始量產 10nm 集成電路芯片。28nm 和 10nm 之間還間隔著 14nm 的制作工藝差距。數據顯示,同功耗下 14nm 可達到的頻率比 28nm 要高出 61%。中芯國際和臺積電的技術差距可想而知。 


 


這個問題,隨著梁孟松的加入,終于有了改觀。梁孟松用了僅僅 300 天的時間,就讓中芯國際實現了從 28nm 到 14nm 的技術跨越,14nm 芯片的良品率也從 3%提高到 95%。可以說,梁孟松的加入帶動了中芯國際制程工藝的跨越式發展。中芯國際實現 28nm 到 14nm 的跨越,也極大地振奮了國內自主芯片產業的信心。 2020 年 1 月份,中芯國際再次傳來了令人激動的喜訊,中芯國際旗下的的中芯南方集成電路制造有限公司宣布首條 14nm 生產線投入生產。 然而,中芯國際的集成電路制造技術距世界先進水平還是有很大差距。


 


不久前,臺積電宣布 5nm 生產線即將投入量產,而同為半導體產業的三星已經將目光轉向 3nm 生產線。在芯片領域,14nm 和 5nm 之間還間隔著 7nm 的技術差距,也就是說,中芯國際和臺積電的半導體技術仍然相差兩代。 中芯國際制造技術突破的道路上,有兩個難題——技術封鎖和資金匱乏。 


 


眾所周知,半導體產業發展是建立在“燒錢”模式上的。每一次納米工藝的進步,其成本都以幾何倍增長。2019 年中芯國際投入研發的資金達 6.874 億美元,占銷售收入的 22%。 圓晶的成本隨著制程的金屬層數隨著工藝的演進不斷提升。例如 13nm 制程有六層金屬,5nm 最少會有 14 層金屬,此外,半導體制作中還要引入新的技術,14nm 時需要引入 FinFET 技術,5nm 時引入堆疊橫向納米線技術。 其次是光刻技術成本。40nm 和 45nm 制程需要用到 40 層光罩,而 14nm 和 10nm 就需要 60 層光罩。這對光刻機的要求近乎是苛刻的,而全球僅有一家成功成功開發 EUV 的公司——荷蘭的阿斯麥。去年 5 月,中芯國際向荷蘭訂購一臺光刻機,而這臺光刻機的價格就達 1.2 億歐元,其價格相當于兩架波音 737。 


 


再者,美國一直掌握著半導體產業的核心技術,對中國半導體企業進行技術封鎖。據路透社報道,美國周一宣布對中國半導體設備限制出口,防止中國通過民用商業等途徑獲取半導體設備和技術。 縱觀中芯國際發展歷程,在重重困境中一步步走到今天,實屬不易。雖然中芯國際的工藝實力相較于世界頂尖水平還有差距,但中芯國際依舊給業界創造了不少奇跡。N+1 工藝已經逼近 7nm 水準,而往后性能更加強大的的 N+2 工藝,必然能在技術上讓中芯國際更有底氣。 


 


中芯國際此次技術工藝的突破,對中國半導體企業來說也具有戰略意義。一方面,中芯國際的技術突破讓“中國芯”在半導體產業有了更多的話語權,為中國電子產品企業的進一步發展奠定了基礎。另一方面,中芯國際的新工藝也為我國半導體企業研發爭取了更多的時間。


 


不過,目前國內半導體產業仍處于發展階段,還存在很大差距,這也意味著中芯國際的前行之路依舊任重道遠。在半導體產業大環境不利的情況下,中芯國際技術發展之路,必然充滿著千難萬險。
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