霍爾芯片的制造工藝分析
2020/7/1 22:18:11 點擊:
霍爾傳感器是一種磁性傳感器,通過感應磁場的變化,輸出不同種類的電信號。霍爾芯片主要有三種制造工藝,分別為 Bipolar、CMOS 和 BiCMOS 工藝,不同工藝的產品具有不同的電參數與磁參數特性。三種不同工藝產品的特點如下。
Bipolar 工藝的霍爾芯片:
Bipolar 工藝是最早出現的適用于量產的芯片工藝。作為一種傳統的半導體工藝,Bipolar產品具有良好的電特性,包括其可以在寬泛的工作電壓環境下工作,反向電壓保護電路設計簡單高效,同時兼顧 ESD 保護及抗電磁干擾能力。其缺點是磁特性表現一般,包括傳感器本身的磁開啟點與關閉點一致性及對稱性不佳,且隨溫度變化,其磁參數變化較大,也就是常說的溫漂較大。雖然可通過后續的測試篩選來提高產品的整體磁性能,但也提高了生產成本,從而增加客戶端的使用成本。
CMOS 工藝的霍爾芯片:
CMOS 工藝是隨著時代的發展,在芯片本身集成度要求提高的前提下產生的另一種量產工藝。半導體制造工藝的發展使得現今 CMOS 工藝最小線寬不斷下降,意味著在同樣面積的晶片上可集成更多的電路,特別是數字處理電路。由此 CMOS 工藝的霍爾芯片可通過內置斬波放大處理電路、動態失調消除電路等方式有效控制磁參數的偏差范圍,其最大的優點是具有精準的磁開關動作點,磁性靈敏度選擇范圍較廣。對于溫漂的控制,亦可通過內置溫度補償電路實現。與此同時,因其其線寬窄,導致芯片本身的耐壓性能一般,由于兼顧 ESD 能力、啟動電壓等因素,大多的 CMOS 工藝霍爾傳感器沒有內置反向保護電路。CMOS 芯片的抗干擾能力也較差。
BiCMOS 工藝的霍爾芯片:
上述兩種工藝存在各自的優缺點,隨著半導體技術的發展繼而出現了將上述兩種工藝組合運用的 BiCMOS 工藝。BiCMOS 工藝以 CMOS 工藝為基礎,在輸入電源調制和輸出驅動大負載處加入 Bipolar 工藝,從而結合兩者的優點,降低兩種工藝對芯片最終磁、電特性的影響。其繼承了 CMOS 工藝優良的磁特性,同時最大限度保留了 Bipolar 工藝耐高壓、抗干擾能力強的優點。
以上各類工藝沒有絕對的優劣之分,需要結合實際的應用環境加以綜合考慮,使用最適合的工藝種類芯片。
Bipolar 工藝的霍爾芯片:
Bipolar 工藝是最早出現的適用于量產的芯片工藝。作為一種傳統的半導體工藝,Bipolar產品具有良好的電特性,包括其可以在寬泛的工作電壓環境下工作,反向電壓保護電路設計簡單高效,同時兼顧 ESD 保護及抗電磁干擾能力。其缺點是磁特性表現一般,包括傳感器本身的磁開啟點與關閉點一致性及對稱性不佳,且隨溫度變化,其磁參數變化較大,也就是常說的溫漂較大。雖然可通過后續的測試篩選來提高產品的整體磁性能,但也提高了生產成本,從而增加客戶端的使用成本。
CMOS 工藝的霍爾芯片:
CMOS 工藝是隨著時代的發展,在芯片本身集成度要求提高的前提下產生的另一種量產工藝。半導體制造工藝的發展使得現今 CMOS 工藝最小線寬不斷下降,意味著在同樣面積的晶片上可集成更多的電路,特別是數字處理電路。由此 CMOS 工藝的霍爾芯片可通過內置斬波放大處理電路、動態失調消除電路等方式有效控制磁參數的偏差范圍,其最大的優點是具有精準的磁開關動作點,磁性靈敏度選擇范圍較廣。對于溫漂的控制,亦可通過內置溫度補償電路實現。與此同時,因其其線寬窄,導致芯片本身的耐壓性能一般,由于兼顧 ESD 能力、啟動電壓等因素,大多的 CMOS 工藝霍爾傳感器沒有內置反向保護電路。CMOS 芯片的抗干擾能力也較差。
BiCMOS 工藝的霍爾芯片:
上述兩種工藝存在各自的優缺點,隨著半導體技術的發展繼而出現了將上述兩種工藝組合運用的 BiCMOS 工藝。BiCMOS 工藝以 CMOS 工藝為基礎,在輸入電源調制和輸出驅動大負載處加入 Bipolar 工藝,從而結合兩者的優點,降低兩種工藝對芯片最終磁、電特性的影響。其繼承了 CMOS 工藝優良的磁特性,同時最大限度保留了 Bipolar 工藝耐高壓、抗干擾能力強的優點。
以上各類工藝沒有絕對的優劣之分,需要結合實際的應用環境加以綜合考慮,使用最適合的工藝種類芯片。
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